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| Since | 21.0 |
概要 ¶
MPM Surfaceは、MPMシミュレーションに基づいてサーフェスを生成します。
これは、ポリゴンメッシュだけでなくVDBも出力することができます。
このノードには、MPMシミュレーションをレンダリング可能なジオメトリに変換する工程を効率化するための機能がたくさん備わっています。
詳細は、MPMの章のサーフェス化のヘルプページを参照してください。
入力 ¶
MPM Particles
MPM Solverの出力。
MPM Surface and Vel
MPM Surfaceの出力。
これは、SDF生成とポリゴンメッシュ生成を別々の工程に分けるのに役立ちます。
Rest Source Model
MPM Sourceで使用されたレンダリング可能なジオメトリ。
Polygon Mesh Surface Mask
レンダリング時に表示されないポリゴンを間引くマスクとして使用されるsurfaceVDB。
パラメータ ¶
Output Type
色々なジオメトリ出力。
Surface VDB
surfaceVDBグリッドを出力します。
Density VDB
densityVDBグリッドを出力します。
Polygon Mesh
ポリゴンメッシュを出力します。
Voxel Size
このノードが推定したボクセルサイズを手動で上書きします。
Voxel Scale
ボクセルサイズを微調整できるようにするためのスケール。
Density ¶
Particle Scale
densityVDBグリッドへラスター化する前に、パーティクルの半径をスケールします。
Multiplier
densityVDBグリッド値をスケーリします。
Mask by Surface
生成されたsurfaceグリッドを、ラスター化されたdensityグリッドに適用するマスクとして使用します。
Tip
これによって、ポイントのラスター化における高周波の不明瞭さが軽減されて低周波の構造が一部復元されることで、ディテール表現の幅が広がります。
Surface ¶
Use Second Input Surface
2番目の入力が接続されている場合、入力のsurfaceグリッドおよびvelグリッドを、ゼロから再生成せずにそのまま使用します。
Method
surfaceVDBグリッドの生成に使用するアルゴリズム。
詳細は、ニューラルポイントサーフェシングを参照してください。
Neural Point Surface
トレーニング済みのニューラルネットワークを用いて、
Neural Point Surfaceノードによってsurfaceグリッドを生成します。
これは、より新しい実験的な手法です。
VDB from Particles
VDBの形態学的な処理の組み合わせを用いて、surfaceグリッドを生成します。
これは、より堅牢で従来の手法です。
Neural Model
推論を実行するのに使用する事前学習済みモデルを定義します。 それぞれがどれも異なるルックになります。
Balanced
これがデフォルトです。 たいていの場面で上手く実行され、ソリッドモデルのシャープな特徴部を維持しなければならない時に最適な結果が得られる可能性が高いです。
Smooth
滑らかな表面再構築に最適化されています。 このモデルは、 Balanced モデルと比較して高周波数なディテールが不足しますが、滑らかな表面上の凹凸をより効果的に除去することができます。
Liquid
液体シミュレーションの再構築に最適化されています。 このモデルは、滑らかな曲面だけでなく、波が砕けてうねるシャープな遷移も維持します。 また、時間的に安定した方法で近辺の水滴を繋げることで、薄い水膜の再構築にも優れています。
Granular
粗くて粒状の表面を適切に取り込めるように最適化されています。 このモデルは、表面から完全に分離した浮遊ポイントを維持しつつ、密な表面付近の浮遊ポイントを無視することで、ぼやけを軽減し、より明確な形状を得ようと試みます。 これは、特に Chunky MPMマテリアルで役に立ちます。
Custom
Houdiniに同梱されていないカスタムモデルを使用します。
ONNX Model Path
カスタムONNXモデルのファイルパス。
Force Closed SDF
表面が適切に形成され、面積0を起因とする穴が含まれないようにします。
Particle Scale
surfaceVDBグリッドにラスター化する前にパーティクルの半径をスケールします。
Rebuild SDF
グリッドのメモリ使用量を削減するためにsurfaceVDBグリッドを再構築します。
Fill Interior
surfaceVDBグリッドの内部を充填して、衝突検出精度を向上させます。
Enable Partitioning
メモリ容量が限られたOpenCLデバイス上で大規模なポイントクラウドデータを処理できるようにパーティション処理を有効にします。
Note
このオプションは、このノードのクック中にOpenCLデバイス(GPU)のメモリ不足が発生した場合にのみ有効にしてください。 これを有効にすると、推論前後の前処理と後処理のタスクが分割され、ピーク時のメモリ消費量が低減します。 ただし、これによってパフォーマンスが大幅に低下してしまうので、必要でない限り無効のままにしておくことを推奨します。
Partition Max Size
単一パーティションが指定したポイント数を超えなくなるまで入力ポイントクラウドを再帰的に分割します。
Filtering ¶
Dilate
surfaceVDBグリッドを、指定したボクセル数だけ膨張させます。
Smooth
surfaceVDBグリッドを、指定した反復回数だけ平滑化します。
Erode
surfaceVDBグリッドを、指定したボクセル数だけ浸食します。
Masked Smooth ¶
Min Stretch
平滑化から保護する最小伸張量を定義します。
Min Curvature
平滑化から保護する最小曲率を定義します。
Smooth
surfaceVDBの平滑化反復回数。
この操作ではマスクを使用し、鋭いディテールを保持しつつ低周波領域のみを平滑化します。
Velocity ¶
Use Second Input Vel
2番目の入力が接続されている場合、入力のvelVDBグリッドをゼロから計算せずにそのまま使用します。
Create Velocity Grid
MPMパーティクル上のvPointアトリビュートに基づいて、velVDBグリッドを生成します。
Velocity Voxel Scale
surfaceグリッドのボクセルサイズをスケールすることで、velグリッドのボクセルサイズを定義します。
Polygon Mesh ¶
Adaptivity
ポリゴンへ変換する時にサーフェスにどれだけ忠実に合わせるかを指定します。 この適応度が高いほどポリゴンサイズの変化幅が大きくなり、少ないポリゴン数でサーフェスを表現することができます。
Sample Velocity from VDB
MPMパーティクルからアトリビュートを転送するのではなく、代わりにvelグリッドをサンプリングします。
Convert to Polysoup
メモリ使用量およびディスク容量を削減するために、ポリゴンメッシュをPolysoupに変換します。
Attribute Transfer ¶
From MPM Particles ¶
Enable Transfer from MPM
1番目の入力のMPMパーティクルからアトリビュートを転送します。
Attribute List
転送するPointアトリビュートのリスト。
Kernel Radius
カーネル関数の減衰半径。 カーネル半径がゼロに近づくほど、フィルタは最近傍補間に似てきます。 カーネル半径が大きくなるほど、フィルタは均一ウェイティングに近づきます。
Max Sample Count
補間対象となる最大サンプル数。 最大サンプル数が1の場合、最近傍補間となります。
From Rest Source Model ¶
Enable Transfer from Rest Source Model
3番目の入力の静止ソースモデルからアトリビュートを転送します。
Start Frame
MPMシミュレーションの開始フレームを手動で定義します。 開始フレームは、通常ではMPMパーティクルのDetailアトリビュートで指定します。
Attribute List
転送するアトリビュートのリスト。
Note
uvアトリビュートは、シーム(継ぎ目)が混ざり合うのを防ぐために別々に扱われます。
内部的には、uv島毎に転送が行なわれます。
Kernel Radius
カーネル関数の減衰半径。 カーネル半径がゼロに近づくほど、フィルタは最近傍補間に似てきます。 カーネル半径が大きくなるほど、フィルタは均一ウェイティングに近づきます。
Max Sample Count
補間対象となる最大サンプル数。 最大サンプル数が1の場合、最近傍補間となります。
VDB Surface Mask ¶
Enable SDF Mask
4番目の入力のsurfaceグリッドを使用して、視覚的な品質に影響を与えることなくメモリ使用量とディスク容量を削減するためにポリゴンを間引きできる領域を定義します。
Mask Offset
surfaceグリッドマスクの内側領域をオフセットするのに使用されるアイソ値。
Spread Iterations
各ポイントが隣接ポイントから最大マスク距離を集める反復回数。
これによって、削除対象となるポリゴンセットの選択が事実上収縮し、surfaceマスクとポリゴンメッシュの交差に小さな隙間が生じるのを防ぐことができます。
| See also |
MPM Debris Source
MPM Post-Fracture
MPM Deform Pieces
